真空镀膜机溅镀的原理是什么
溅镀,一般指的是磁控溅镀,归于高速低温溅镀法.
该技能请求真空度在1×10-3Torr摆布,即1.3×10-3Pa的真空状况充入慵懒气体氩气(Ar),并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电,因为辉光放电(glow discharge)发生的电子激起慵懒气体,发生等离子体,等离子体将金属靶材的原子轰出,堆积在塑胶基材上.
真空镀膜机溅镀的原理是什么
以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等较高,Ti,Mo,Ta,W等较低。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电(glow discharge)发生,在10-1—10 Pa真空度,在两较间加高压发生放电,正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材,而镀至被镀物上。
正常辉光放电(glow discharge)的电流密度与阴极物质与形状、气体品种压力等有关。溅镀时应尽也许保持其安稳。任何资料皆可溅射镀膜,即便高熔点资料也简单溅镀,但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差,溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属<5W/cm2
二较溅镀射:靶材为阴极,被镀工件及工件架为阳极,气体(氩气Ar)压力约几Pa或更高方可得较高镀率。
磁控溅射:在阴极靶外表构成一正交电磁场,在此区电子密度高,进而进步离子密度,使得溅镀率进步(一个数量级),溅射速度可达0.1—1 um/min膜层附着力较蒸镀佳,是现在较有用的镀膜技能之一。
其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技能
镀膜技术在刀具、模具等金属切削加工工具方面的应用
在生活中我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等,这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。
(1)金黄色的是在刀具上涂镀了TiN、ZrN 涂层。TiN是**代应用广泛的硬质层材料。
(2)黑色的是在切削工具上涂了TiC、CrN涂层。
(3)钴铜色的是在刀具上镀涂了TiALN涂层。
3、镀膜技术在建筑玻璃和汽车玻璃上的应用
建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量,这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射,普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外,但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。随着经济的发展,普通玻璃已越来越不能满足人们的要求。而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求;而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和较大限度阻止室内热量外流的要求。
在玻璃上,镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃。这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。
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