较直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM),这种仪器可以直接驱动蒸发源,通过PID控制循环驱动挡板,保持蒸发速率。只要将仪器与系统控制软件相连接,它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精确度是有限的,部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。此外虽然QCM在较低温度下非常稳定,但温度较高时,它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中,很难阻止传感器跌入这个敏感区域,从而对膜层造成重大误差。
光学监控是高精密镀膜的的可以选择监控方式,这是因为它可以更精确地控制膜层厚度(如果运用得当)。精确度的改进源于很多因素,但较根本的原因是对光学厚度的监控。OPTIMALSWA-I-05单波长光学监控系统,是采用间接测控,结合汪博士开发的先进光学监控软件,有效提高光学反应对膜厚度变化灵敏度的理论和方法来减少良好误差,提供了反馈或传输的选择模式和大范围的监测波长。特别适合于各种膜厚的镀膜监控包括非规整膜监控。
油扩散泵的污染物来源有:
1、扩散泵油蒸汽的返流,这是较重大的污染源。
2、系统中的零部件,在装配时用有油的手拿。用有油污的手套拿,这样粘染的**分子可以造成系统内的污染。
3、前级油封机械泵油的返流。这个问题也很严重,当入口压力较高时,在达到过渡区(1~10-1Pa)压力时,机械泵的油蒸汽即可直接进入扩散泵内,对系统直接进行污染。很多真空工艺过程的污染来自机械泵返油。当停机械泵时如不及时向泵内放大气,机械泵油可直接返到扩散泵油锅内。当扩散泵起动时对系统的污染更为严重。
4、抽气系统中密封材料的放气造成的污染。特别是人造橡胶密封圈,密封油脂,润滑油等,也同样造成严重的污染。
5、当停泵后放大气时,使真空零部件在空气中粘污上水蒸汽,油烟等,造成对真空系统的污染。
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