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真空镀膜机的操作方法介绍
真空镀膜机首要指一类需求在较高真空度下进行的镀膜仪器，首要思路是分成蒸腾和溅射两种。真空镀膜机的应用是很复杂的，用户需求掌握必定的操作常识。下面小编就来详细介绍一下真空镀膜机的操作方法，期望能够协助到我们。
真空镀膜机电控柜操作
1. 开水泵、气源。
2. 开总电源。
3. 开保持泵、真空计电源，真空计档方位V1方位，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4. 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、发动，真空计开关换到V2方位，抽到小于2停止，约需20分钟。
5. 调查涡轮分子泵读数抵达250今后，关予抽，开前机和
高阀持续抽真空，抽真空抵达必定程度后才能开右边的高真空表头，调查真空度。真空抵达2×10-3今后才能开电子枪电源。
真空镀膜设备是什么？
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且较终沉积在基片表面，经历成膜过程，较终形成薄膜。
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