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蒸发镀膜
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法较早由M.法拉*于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽**真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质
电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质；③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。
蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比，具有较高的沉积速率，可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
为沉积高纯单晶膜层，可采用分子束外延方法。
喷射炉中装有分子束源，在**高真空下当它被加热到一定温度时，炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度，沉积在基片上的分子可以徙动，按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜，薄膜较慢生长速度可控制在1单层/秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种**晶格结构薄膜。
蒸发镀膜机的日常维护

1例行保养生产设备中发现了一个不好的迹象，立即解决。镀膜机不要认为这油定期更换，等待维修时间，转子泵严重磨损可能。例如，轴承的一些卡工件转架，更换轴承，然后等到它完全打破了，可真是个大问题，镀膜机可能会导致转架电机烧毁等。
2定期检修，镀膜机有人会问一个日常的维护也需要定期维护？事实上，每个设备都有它自己的生命，如2年油扩散泵的使用寿命，提前更换，镀膜机在生产阶段没有问题。只要你把日常维护和定期检修，对设备的使用寿命，在同一时间的延长，生产过程中的失效概率大大减少，提高了生产效率。， 3，不要盲目拆卸。镀膜机问题的真空部分是困难的，而许多公司不泄漏检测器，并将逐步找到。为什么不去真空可能有以下几点： 1也许是泄漏率，也就是我们常说的泄漏； 2也许是真空机组的抽气能力是不够的，污染或氧化；
3可能是一个真空室太脏空气；镀膜机漏水4真空室；
4次管道泄漏；或是有可能。的问题，首先是判断，是吧？拆除吗？将漏水？阀门的开启？根据现象判断，然后根据判断发现问题，可以取得事半功倍的效果。
5养成良好的卫生习惯。镀膜机除尘设备及周边设备，石油设备本身是相当大的。灰尘会产生静电，对电子元器件的损坏。油能使导线管淬火裂纹，导致一些意想不到的问题。我们使用的真空设备，真空设备和其自身的特殊性。真空设备，注意清洁卫生是一个真空，真空度差，通货紧缩更。